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真空位移台
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VLS200高真空精密二维位移台
VLS200高真空精密二维位移台
VLS200高真空精密二维位移台
主要特点

  • 适用于10-⁵Pa及以下超高真空环境
  • 低释气率、低发热真空直线电机驱动
  • 独特的直线电机磁屏蔽设计
  • 平台材料可选非磁性材料,整体漏磁可达nT级
  • 优异的速度波动和位置稳定性

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主要应用

电子束检测、电子束光刻、扫描电镜

性能简介

高真空精密二维位移台采用了符合超高真空标准的材料和IS06洁净室中的特殊工艺制造,确保可适用于10⁻⁵Pa及以下超高真空环境。在实现高精度、高刚度XY运动的同时,还保证了真空环境下的热管理与磁屏蔽需求。

机械尺寸图

*接口尺寸数据来源于VLS200

技术参数
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技术指标

单位

VLS200-08

VLS200-12

 

X

Y

X

Y

行程

mm

300

220

400

320

最大速度

m/s

0.35

0.35

0.35

0.35

加速度

g

0.4

0.4

0.4

0.4

精度

μm

±1

±1

±1

±1

双向重复精度

μm

±0.5

±0.5

±0.5

±0.5

位置稳定性(3σ)

nm

±5

±5

±5

±5

速度波动

 

<0.1%

<0.1%

<0.1%

<0.1%

直线度

μm

7.5

7.5

7.5

7.5

俯仰

arcsec

<20

<20

<20

<20

偏摆

arcsec

<20

<20

<10

<10

机械特征

 

 

 

 

 

驱动负载(无负载)

Kg

52

7

53.5

9

最大负载

Kg

13.5

13.5

13.5

13.5

平台质量

Kg

100

100

145

145

外观尺寸

mm×mm×mm

670×630×200

810×714×200

平台材料

 

铝合金

 

*非主动减振环境下的测试数据。

定制信息

在真空产品序列里,配置了可根据用户实际应用选择的可选项。可选内容包括行程、编码器、控制系统等选项。

表 1 导轨选项

-G1

常规真空导轨

-G2

无磁真空导轨

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