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静电吸盘&控制器
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高真空静电吸盘控制器
高真空静电吸盘控制器
高真空静电吸盘控制器
主要特点

  • 提供大小相等、相位相反的两相电压
  • 提供穿刺电压,可以对晶圆进行刺穿
  • 提供电容检测,用来指示无晶圆、晶圆吸附、释放状态
  • 提供穿刺检测,用来指示穿刺是否成功
  • LCD显示,可以显示吸附和穿刺电压以及电阻、电容检测值

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性能简介

静电吸盘控制器是双极可逆电源,特为在真空环境下静电吸盘吸附Wafer的控制应用而设计。通过控制器的两个高压接头分别向静电吸盘中通极性相反的0~500V 吸附高压,同样的,也可以提供极性相反的释放电压。此外,本控制器可以实现对Wafer的穿刺功能,通过穿刺高压接口向静电吸盘提供1000~4000V 的穿刺电压。同时,该控制器可监测Wafer 的吸附/释放状态以及高压穿刺结果。
控制器预留有DB9 接口可以实现与上位机通讯,通过上位机下发指令对控制器的功能进行控制,同时可以监测控制器的运行状态。

技术参数
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参数

输入

100~264VAC/47~63Hz

通讯方式

RS-485 (RTU&ASCII)

吸附电压

0~±500V,±2%FS

穿刺电压

1000~4000V,± 5%FS

环境

运行/Operating:0℃~45℃;25~60%HR

存储/Storage:-35℃~85℃;25~60%HR

尺寸

482.6mm×88.1mm×361.8mm(W×H×D)

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