上海隐冠半导体技术有限公司

EN
产品中心详情页2
静电吸盘&控制器
首页 > 产品中心 > 关键零部件系列 > 静电吸盘&控制器
高真空静电吸盘
高真空静电吸盘
高真空静电吸盘
主要特点

  • 库伦型吸盘或梯度力吸盘
  • 支持双电极、多电极、叉指电极等设计
  • 适用于10-⁵ Pa及以下超高真空环境
  • 静电吸附力大
  • 吸附面全局面型精度高
  • 吸附面表面图形可定制
  • 适用于无磁环境
  • 吸附对象包括晶圆,蓝宝石、玻璃等介电材料 

产品资料下载
主要应用
  • 晶圆量测:EBI,CD-SEM,Review-SEM
  • 晶圆制造:电子束光刻(EBL)
  • 薄膜沉积(CVD、PVD等)
  • 离子注入等
性能简介

静电吸盘(ESC)是半导体工艺中的硅片夹持工具。ESC以静电吸附为基本原理在施加外部高压后,通过静电吸盘对硅片的库仑吸附力或J-R吸附力来固定硅片的。

机械尺寸图

通用外形尺寸,单位:mm

技术参数
<<<左滑查看更多参数
 

单位

6inch ESC

8inch ESC

12inch ESC

原理类型

 

库伦型或梯度力 库伦型或梯度力 库伦型或梯度力

电极数量

 

双电极

双电极

双电极

精度

 

 

 

 

全局平面度

μm

<1

<1

<2

平行度

μm

<5

<5

<5

电气性能

 

 

 

 

标准吸附电压

V

1000

1000

1000

漏电流

nA

<5

<5

<5

性能参数

 

 

 

 

吸附力

N

≥10(库伦型)

≥16(库伦型)

≥40(库伦型)

外观尺寸

 

 

 

 

直径

mm

144

194

294

厚度

mm

12.6

12.6

12.6

*电极数量、平面度指标、外形尺寸和相关结构均可定制化设计

合作咨询