光刻设备
半导体量检测设备,如膜厚测量,OCD 测量,形貌测量,缺陷检测等
吸盘采用轻量化设计,并采用和硅材料热膨胀系数相近材料:无压烧结碳化硅,渗硅碳化硅,氮化硅和氮化铝等。吸盘具备高刚度,高导热,低热膨胀,稳定性高等特点,另外,还具备高纯度,晶粒大小均匀等特性,如此可有效的减少Particle以及化学清洗的污染问题,延长使用寿命。
单位 |
数据 |
|
平面度 |
μm |
0.5 |
适用规格 |
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6/8' 12' 8/12' |
表面特征 |
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销式,环式 |
Pin高度 |
mm |
0.05-0.2 |
Pin直径(最小) |
mm |
φ0.2 |
Pin间距(最小) |
mm |
3 |
密环宽度(最小) |
mm |
0.7 |
表面粗糙度 |
μm |
Ra 0.02 |
厚度公差 |
mm |
±0.01 |
直径公差 |
mm |
±0.01 |
平行度公差 |
μm |
≤3 |