隐冠打造精密运动台、特种电机、压电产品、驱控产品和精密零部件五大产品线，配备先进的精密运动控制测试平台和一批专用工具，具备良好的生产测试条件。
隐冠围绕精密运动控制，持续深耕量检测、键合及芯片制造设备领域，辐射新能源电池、智能制造、光伏新技术及消费等领域，为客户提供定制化的解决方案。
隐冠半导体成立于2019年，是一家专注半导体制造、量检测和先进封装装备精密运动平台及核心部件研发与生产的高科技创新型企业。
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公司以客户需求为导向、快速反应为特点。专业化定制、全生命周期服务是公司秉承的发展理念。
开启精密运动之旅，“隐”领冠军路，精准控未来。
隐冠让运动更精密，让精密更稳定
复杂时变的大气环境易对精密光机系统探测光、发射激光的空间传输产生高频的随机扰动，导致传感图像清晰度下降及激光聚焦形状溃散，极大地降低了作用效果。利用波前校正器可对空间光束的波前畸变进行自适应动态补偿，从而显著提高图像探测精度和激光传输性能。
激光器是利用受激辐射方法产生可见光或不可见光的一种器件，构造复杂，技术壁垒较高，是大量光学材料和元器件组成的综合系统，居于整个激光产业链的核心中枢位置，主要由光学系统、电源系统、控制系统和机械机构四个部分组成，其中光学系统主要由泵浦源（激励源）、增益介质（工作物质）和谐振腔等光学器件材料组成。
隐冠可提供重载型压电XZ减振台，负载量可选范围30kg~1000kg。减振系统基于隐冠自研压电微步电机技术，具备高刚性、高响应时间、高调整精度等特点，可以实现XZ向运动定位+减振双重功能，适用主动减振带宽1~100Hz。
在半导体制造业中，薄膜的厚度对器件的性能和质量有重要影响。薄膜的厚度决定了许多重要的物理和化学性质，对其折射、反射和透射的光学性质有直接影响，可以导致显著的量子尺寸效应，从而改变材料的电子、光学和磁性等。准确测量和控制薄膜厚度对于优化器件性能、提高生产效率、确保器件可靠性等都具有重要的作用。
套刻误差的定义是两层图形结构中心之间的平面距离。随着集成电路的层数不断增多，多重图形和多重曝光的光刻工艺被广泛应用，不同步骤形成的电路图形之间的套刻精度愈发重要。套刻误差过大形成的错位，会导致整个电路失效报废。套刻误差测量设备，用于确保不同层级电路图形，和同一层电路图形的正确对齐和放置。套刻误差测量通常在每道光刻步骤后进行。
随着半导体行业的飞速发展，半导体的生产工艺越来越复杂，尤其是5nm工艺的逐步成熟完善，3nm工艺不断突破的情况下，芯片电路单元的尺寸越小，芯片生产过程中就越容易出现各种缺陷。一般来说，根据电子系统检测中的“十倍法则”，在基材层面发现的故障传导到芯片级别会造成成本十倍的增加，所以缺陷检测系统在半导体行业极其重要。
